詳述等離子表面清洗設(shè)備的應(yīng)用

提到等離子表面清洗設(shè)備這個(gè)詞語(yǔ)，大家肯定覺(jué)得非常陌生，雖然也聽(tīng)到過(guò)這個(gè)詞，但是對(duì)于它的了解卻少之又少。不過(guò)沒(méi)關(guān)系，在今天的文章中，我們就來(lái)跟大家講解一下有關(guān)等離子表面清洗設(shè)備的相關(guān)知識(shí)，大家不妨來(lái)看看吧。

  等離子表面清洗設(shè)備的應(yīng)用：

  1、清洗光學(xué)器件、電子元件、 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片，移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)，清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石等;

  2、牙科領(lǐng)域：對(duì)硅酮壓模材料和鈦制牙移植物的預(yù)處理，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性;

  3、醫(yī)用領(lǐng)域：修復(fù)學(xué)上移植物的表面預(yù)處理，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性，醫(yī)療器械的消毒和滅菌;

  4、改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力;

  5、去除金屬材料表面的氧化物;

  6、使玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面活化，增強(qiáng)其表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性;

  7、高分子材料表面修飾。

等離子表面清洗設(shè)備的原理是在真空狀態(tài)下，壓力越來(lái)越小，分子間間距越來(lái)越大，分子間力越來(lái)越小，利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)將氧、氬、氫等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的離子，然后與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì)，然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去，從而達(dá)到表面清潔活化的目的。

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