等離子設(shè)備清洗法和濕洗的區(qū)別

低溫等離子設(shè)備其實(shí)也算是干洗法中的一種，和濕法清洗相比之下它具有工藝簡(jiǎn)單，可控，而且產(chǎn)品可達(dá)到一次洗干凈，沒有殘留的目的。

  而濕洗法它的最大的劣勢(shì)可能就是一次性洗不干凈，還會(huì)有殘留物，使用等離子設(shè)備進(jìn)行的干洗它的反應(yīng)是需要?dú)怏w的，而我們所使用的氣體大多數(shù)是無(wú)毒害的，并且濕洗法很多是使用了大量的溶劑，其中也包含了很多的化學(xué)成分，對(duì)人體都是有害的，對(duì)環(huán)境也會(huì)有影響。

  在使用等離子清洗機(jī)進(jìn)行等離子體處理的過程中，它所包括的是兩種清洗過程，一種是化學(xué)的反應(yīng)，另一種是物理的反應(yīng)。

  其中以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子清洗機(jī)具有清洗速度非?？?，性能好，選擇性高，在對(duì)去除有機(jī)物，氧化物，以及做表面活化都有著相當(dāng)好的功效。

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